自己整合（じこせいごう、英: Self-alignment）とは、例えば半導体等の集積回路作製プロセスにおいて、既に形成されたパターンを次のプロセスのマスクとして利用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを進めることである。 また、最初のパターンあるいは形状が最終的な素子のパターンあるいは形状を決定する場合も自己整合と呼ぶ。 自己組織化 (Self-assembly) とは異なる。
関連項目
- 薄膜トランジスタ
- 自己集合
- 自己組織化
- 自己組織化リソグラフィ
- 有機体論
- 創発
- 階層構造
- 複雑適応系
- ネゲントロピー
- 散逸構造生成
- イリヤ・プリゴジン
- ナノマシン、ナノテクノロジー
- NEMS
脚注・参照
